Extreme Ultraviolet (EUV)

EUV-Lithografie ist das fortschrittlichste heute eingesetzte Verfahren zur Herstellung von Mikrochips. Sie arbeitet mit extrem kurzwelligem Licht — rund 13,5 Nanometer — um winzigste Strukturen auf einem Siliziumwafer zu belichten.

Warum so kurzwellig?

Je kürzer die Wellenlänge des verwendeten Lichts, desto feiner lassen sich Strukturen auf dem Wafer abbilden. Im Vergleich zur älteren Deep-Ultraviolet-Lithografie (DUV) erlaubt EUV daher deutlich kleinere und dichter gepackte Transistoren.

Bedeutung für die Halbleiterindustrie

Kleinere, dichtere Strukturen bedeuten leistungsfähigere und zugleich energieeffizientere Chips. EUV gilt deshalb als eine Schlüsseltechnologie, um die fortlaufende Miniaturisierung von Prozessoren und Speicherbausteinen weiter voranzutreiben.

Technische Herausforderung

Die Erzeugung und präzise Steuerung von EUV-Licht erfordert hochkomplexe Anlagen — genau in diesem Bereich, der Fertigung EUV-relevanter Baugruppen, bin ich bei TRUMPF tätig.

Mehr zum Thema: EUV-Lasersysteme bei TRUMPF.