Extreme Ultraviolet (EUV)
EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet Lithography) ist eine fortschrittliche Technik zur Herstellung von Mikrochips und integrierten Schaltkreisen, die in modernen Elektronikgeräten verwendet werden. Sie nutzt extrem kurzwelliges ultraviolettes Licht (mit einer Wellenlänge von etwa 13,5 Nanometern), um die kleinsten Strukturen auf Siliziumwafern zu belichten und so die Präzision und Dichte von Transistoren in Halbleitern zu erhöhen.
A link to an informative website: EUV-Lasersysteme
EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet Lithography) ist eine fortschrittliche Technik zur Herstellung von Mikrochips und integrierten Schaltkreisen, die in modernen Elektronikgeräten verwendet werden. Sie nutzt extrem kurzwelliges ultraviolettes Licht (mit einer Wellenlänge von etwa 13,5 Nanometern), um die kleinsten Strukturen auf Siliziumwafern zu belichten und so die Präzision und Dichte von Transistoren in Halbleitern zu erhöhen.
Im Vergleich zur traditionellen Deep Ultraviolet (DUV) Lithographie, bei der Licht mit längeren Wellenlängen verwendet wird, ermöglicht EUV die Herstellung von Schaltkreisen mit noch kleineren Merkmalen und damit eine höhere Leistungsfähigkeit, Energieeffizienz und Miniaturisierung von Geräten. Die Technik ist eine Schlüsseltechnologie für die nächsten Generationen von Mikroprozessoren und Speicherchips und spielt eine zentrale Rolle bei der Verwirklichung des Mooreschen Gesetzes, das die Verdopplung der Transistorenzahl alle zwei Jahre beschreibt.
EUV-Lithographie erfordert hochentwickelte Maschinen und eine präzise Kontrolle der Beleuchtung, was den Prozess technisch komplex und teuer macht. Dennoch wird EUV als eine der wichtigsten Innovationen in der Halbleiterindustrie angesehen, da sie die Herstellung von Chips mit noch kleineren Strukturen und höherer Leistung ermöglicht.